開発経歴
1987 |
会社設立→ |
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1988 |
電子プローブマイクロアナライザ用走査型電子顕微鏡の開発 |
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1992 |
研究開発用電子線装置の開発 |
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1993 |
高性能ウェハ・マスク破断装置の開発 |
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1995 |
超高真空対応電子線鏡筒"MINI-EOC"の販売開始→ |
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1996 |
観測ロケット搭載用電子銃の開発→ |
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1997 |
イオンスパッタ・プラズマコーターの開発 |
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1998 |
電子銃用テスター電源の開発 |
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1999 |
汎用型走査型電子顕微鏡の開発 |
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2000 |
小型二次電子検出器"MINI-SED"の販売開始→ |
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2001 |
高性能ウェハ・マスク破断装置"AMCシリーズ"の販売開始→ |
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2003 |
表面解析用拡大EOCの開発 |
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2004 |
超小型電子線源"MINI-GUN"の開発→ |
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2005 |
冷陰極型電界放出電子銃テスト装置の開発 |
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2006 |
冷陰極型電界放出電子源評価用 |
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2008 |
顕微メスバウア分光装置の開発→ |
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2009 |
モバイル電子顕微鏡の開発→ |
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2010 |
ナノイメージング装置の開発→ |
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2011 |
回転バイプリズムホルダの開発→ |
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2012 |
分割ABF検出システムの開発 |
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2013 |
E×B-EOCの開発 |
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2015 |
球面グリッドを装着した噴水二次電子検出器の開発→ |
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2016 |
イオン分布ナノイメージングシステムの開発→ |
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2018 |
CoDELMAの開発→ |
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2020 |
超高分解能細胞機能イメージング・制御システムの開発 |
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